三甲基硅烷 :强碱性化学物质之一

更新时间:2024-09-20 23:38

三甲基硅是一种有机硅化合物化学式为C3H10Si,呈碱性,为强碱。它是一种极易燃的物质,用于半导体工业中的等离子相腐蚀剂。三甲基硅烷在半导体工业中也被用作前体物质,通过等离子增强化学气相沉积(PE-CVD)沉积介电层和屏障层。此外,它还被用作源气体,通过等离子增强磁控溅射(PEMS)沉积TiSiCN硬涂层。在相对较低的温度下(低于1000°C)通过低压化学气相沉积(LP-CVD)沉积碳化硅硬涂层。三甲基硅烷是一种昂贵的气体,但比硅烷(SiH4)更安全,并且能够产生多源气体中所不具备的涂层性能。与相关的三乙基硅烷相比,三甲基硅烷不常用作试剂,因为三乙基硅烷在室温下是液体。

化学性质

中文名称:三甲基硅烷

分子式:C3H10Si

分子量:74.197

InChI:InChI=1/C3H10Si/c1-4(2)3/h4H,1-3H3

沸点:1.7°C at 760 mmHg

蒸汽压:1710mmHg at 25°C

本物质是三甲基烷基氯化镁(Me3SiMgCl)的共轭酸,为超强碱,其pKa=70。

参考资料

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0{{catalogNumber[index]}}. {{item.title}}
{{item.title}}
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