李肇基 :四川省科技顾问团顾问

更新时间:2024-09-20 22:24

李肇基教授,博士导师,享受国家特殊津贴专家,四川省科技顾问团顾问。1963年毕业于(现电子科技大学)半导体专业。

简介

李肇基教授,1963年至今在该校从事半导体和微电子学方面的科研和教学工作,多次荣获“三育人”先进个人、优秀教师等称号,其中1982年至1984年作为访问学者赴美国佐治亚理工学院工作,1984年回国后主要研究领域是新型功率器件和智能功率集成电路。指导博士生和硕士生五十余名,鉴定科技成果12项,获国家专利两项,获国家科技进步三等奖,国家发明四等奖、电子部科技进步奖等8项。在IEEE等发表论文四十余篇,被邀为国际杂志《Solid-State Electronics》审稿人。作为课题负责人之一的八·五攻关项目"新型功率MOS器件"于1996年11月获国家计委,国家科委和财政部联合表彰。在IEEE Trans ED(1994,No.12)等中,提出了CLIGBT有非平衡电子抽出的模型和网络模型及模型直接嵌入法。并提出一种具有键合衬底的绝缘栅场效应晶体管(IGBT),此结构可普适于电导型调制功率器件,获发明专利。用国产单晶硅材料取代昂贵的进口外延片制作IGBT。在IEEE Trans. ED(1994,No.12)提出CLIGBT瞬态响应模型。在Solid-State Electron(1991,No.3)提出功率MOS晶体管热特性分析的全热程电热模型。在Solid-State Electron(2000,No.1)中提出电导调制型功率器件的非平衡载流子非准静态抽出模型。在ICCCAS(2002 June)提出了SOI高压横向器件的新结构及其界面电荷耐压模型。

主要成果如下

§ MOS类新型电力电子器件及其技术",国家科技进步三等奖,1998(2);

§ 一种具有复合屏蔽层耐压的高速高压功率半导体器件",国家发明四等奖,1996(2);

§ "XXXX功率器件",国防科技二等奖,2000(1);

§ "灵巧功率集成电路设计技术,1996~2000"。已由中国电力科学研究院有限公司主持鉴定,达到国际先进水

平,验收获优。

§ "XXXX集成电路研究,1996~2000"。已由电科院主持鉴定,达到国际先进水平,

验收获优。

§ 两个项目获2001年国防科技进步二等奖。

§ Z.J. Li,L.Y. Luo,YF系列火箭发动机 Guo,B. Zhang,J. Fang,J. Zeng,"Breakdown Theory of a

New SOI Composite Structure", ICCCAS, pp.1744-1747, June, 2002;

§ Z. J. Li, J. Fang, J. Yang, Analytical Turn-off Current Model for Type of

Conductivity Modulation 功率 MOSFETS with Extracted Excess Carrier,

Solid-State 电子学, Vol44, No. 1, pp1-9, 2000;

§ Z. J. Li, et al, Turn-off Transient Characteristics of Complementary

Insulated -Gate Bipolar Transistor, IEEE Trans. ED, ED-41,No.12,pp2468-2471,

1994;

§ Z, J, Li, X. B. Chen et al. Analysis of thermal characteristics of VDMOS 功率

Transistor, Solid State 电子学,Vol.34, No.3, pp.225-231,1991;

§ Z. J. Li, M. Zhang, J. M. Zhao and X. N. Li, Extracted Current Turn-off Model for

Type of the Power MOS Transistor with Conductivity Modulation,

Chinese J. 电子学, Vol.7,No.3,pp223-227,1998;

§ X. B. Chen,B. Zhang and Z. J. Li,Theory of Optimum 设计 of Reverse-Biased p-n

Junctions using Resisted Field plates and Variation Lateral Doping,

SSE Vol. 35,No.9,pp1365-1370,1992;

§ Z. J. Li, et al, Calculation of Electric Field Profile of High Voltage Devices With

Junction Termination Extension,Proc. ICSICT Oct,pp462-464,1989;

§ Q. Liu(刘启宇), Z. J. Li(李肇基), B. Zhang(张波), J. Fang(方健),

"The Research on Breakdown 电压 of High Voltage LDMOS Devices with Shielding

Trench", Proc. ICSICT,10, pp155-158, 2001;

§ Li Zhaoji, Guo Yufeng , Zhang Bo, J Fang ian, Li Zehong, A New 2-D Analytical Model

of Double RESURF in SOI High Voltage Devices, Proceedings of ICSICT04, 2004,

pp 3 28-331.(ISTP)

§ Guo Yufeng, Li Zhaoji, Zhang Bo, Fang jian, An Analytical Breakdown Model of High

电压 SOI Device Considering the Modulation of Step Buried-oxide Interface

Charges, Proceedings of ICSICT04, 2004, pp357-360.(ISTP)

§ Baoxing Duan , Bo Zhang , Zhaoji Li,"A New Partial SOI 功率 Device Structure with

P-type Buried Layer",Solid-State 电子学,49,1965-1968。

参考资料

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