锑化镓 :Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料

更新时间:2023-09-25 12:05

锑化镓是一种III-V族半导体材料,由锑和镓组成,晶格常数为0.61纳米,能隙为0.726电子伏特。虽然对于锑化镓的研究不如其他半导体材料深入,但近年来由于光纤通信技术的发展,对新器件的潜在需求,锑化镓越来越引起人们的兴趣。在光通信中,为了减少传输中的损耗,总是尽可能采用较长波长的光,而锑化镓可以作为衬底材料与各种III-V族材料的三元、四元固熔体合金的晶格常数相匹配,可以制造更长波长范围的探测器。除了在光纤通信中有巨大的潜在应用价值外,锑化镓还可以用于制作多种用途的红外探测器件、火箭和监视系统中的红外成像器件、用于火灾报警和环境污染检测的传感器、监测工厂中腐蚀气体和有毒气体的泄漏的传感器等。此外,锑化镓还可以用来制造红外发光二极体、电晶体、激光二极体等器件。

正文

中文名称:锑化镓

英文名称:Gallium antimonide

英文别名:Antimony, compd. with gallium (1:1); Gallium antimony (GaSb); stibanylidynegallium; gallium antimony

CAS号:12064-03-8

EINECS号:235-058-8

分子式:GaSb

分子量:191.4814

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