余金中 :中国科学院半导体研究所学术委员

更新时间:2024-09-21 05:33

余金中,男,1943年8月生,湖北鄂州人。现任中国科学院半导体研究所学术委员、研究生院研究员,博士生导师。兼任浙江大学、山东大学、厦门大学北京工业大学华侨大学河北大学兼职教授,《半导体光电子》、《飞通光电子技术》杂志编委。美国国际光子工程协会(SPIE)、中国光学学会会员和中国电子学会高级会员。

人物经历

余金中,1960年毕业于湖北省大冶市第一中学,1965年中国科学技术大学物理系毕业,1967年半导体研究所研究生毕业,师从王守武院士。1982-1983、1987、1990-1991年留学日本理化学研究所大阪大学,师从难波进教授,获大阪大学工学博士学位。1992和2001年作为访问学者在美国硅谷斯图加特大学工作和讲学。

中国科学院半导体所研究员、中国科学院大学博士生导师余金中在这40年中,从一名普通的研究人员成为一名研究员、一名教授,除了从事他热爱的科研工作,他还走上讲台,在教学岗位上勤恳地耕耘了20余年。

人物简介

余金中长期从事半导体光电子学研究,目前着重研究硅基光电子集成、硅基光波导器件和SiGe/Si异质结和器件的生长、制备和特性表征。主要学术业绩为:

一、首先在国内实现了短波长激光器的长寿命工作,促进了我国光通信的起步发展。主持长波长激光器实用化研发,成功地转化为高技术产品。

二、开展低能量无损伤干法刻蚀研究,创新采用低能量大离子束流,实现了无损伤高速率刻蚀,为低阈值长寿命半导体激光器的研制奠定了重要基础。

三、1996年至今致力于硅基光电子学研究,合作设计加工出高水平的UHV/CVD系统,指导研究生外延出高质量SiGe/Si量子结构和器件,相关结果已被国外多次进行报道,并多次在国际会议上作邀请报告。

四、在国内率先主持开展SOI光波导研究,成功做出MMI耦合器和MZI热光型和电光型光开关,响应速度快,为国际先进水平。

先后获中国科学院重大项目二等奖、科技进步二等奖和两次国家科技进步二等奖。1992年起享受国务院颁发的政府特殊津贴,2001年获中国科学院华为优秀研究生导师奖。发表论文150多篇,SCI和EI收录分别为55篇和43篇,被他人SCI引用60次,著作和译著各一本。培养硕士生3名、博士生15名。

主要项目

国家基金委重大项目“光子集成基础研究" 课题"IV族基能带工程材料和器件应用研究”(1998-2002)

国家基金委重大项目"WDM全光网基础研究",课题"WDM全光网关键器件及基础材料研究"(1999-2003)

科技部973项目"支撑高速、大容量信息网络系统的光子集成基础研究" 课题"OXC关键集成器件及增益非线性与噪声动力学"(2001-2005)

科技部863项目"通信用光电子材料、器件与集成技术" 课题"硅基高速波导股份光开关及其集成技术" (2002-2005)

代表性论著

余金中,《半导体光电子技术》,2003,北京市:化工出版社。

YU Jinzhong, Wei Hongzhen, Yan Qingfeng, Xia Jinsong, Zhang Xiaofeng, “Integrated MMIoptical couplers and optical switches in on-insulator techlonogy”, J. of The Graduatte School of The Chinese Acadamy of Sciences, 2003,20(1):1-4.

余金中,严清峰,夏金松,王小龙,王启明,“SOI光电子集成”,功能材料和器件学报,2003,9(1):1-7.

Jinzhong Yu, Changjun Huang, Buwen Cheng, Yuhua Zuo, Liping Luo and Qiming Wang,Type-II SiGe/Si MQWs (multi-quantum Wells) and Self-Organized Ge/Si Islands Grown by UHV/心血管疾病 System,International J. Modern Phys. ,2002,16(28\u002629): 4228-4233

Erich Kasper 主编,余金中译,王杏华,王莉,夏永伟校,《硅锗的性质》,2002年9月第1版,北京市国防工业出版社

Yu Jinzhong, Yu Zhou , Cheng Buwen , Li Daizhong , Lei Zhenlin , Wang Qiming,GeSi/Si heterostructures grown by a home-made UHV/CVD,Science Foundation In CHINA,1999,7(7): 40-43

J. Z. Yu, N. Masui, Y. Yuba, T. Hara, M. Hamagaki, Y. Aoyagi, K. Gamo, and S. Namba,Induced defects in GaAs etched by low 能量 ions in electron beam excited plasma (EBEP) system,Jpn. APPL Phys.,1989,28(11): 2391-2395

J. Z. Yu, T. Hara, M. Hamagaki, T. Yoshinaga, Y. Aoyagi and S. Namba,High-rate ion etching of GaAs and Si at low ion 能量 by using an electron beam excited plasma system,J. Vac. Sci. \u0026 Technol.,1988,B6(6): 1626-1631

J. Z. Yu, T. Hara, M. Hamagaki, Y. Aoyagi and S. Namba,Damageless ion etching by high current low energy ion beam,Application of Ion Beams in Materials Science,1987: 271-276

J. Z. Yu, Y. Aoyagi, S. Iwai, K. Toyada and S. Namba,Anodic oxidation of AlGaAs,J. Appl. Phys.,1985,56(6):1895-1896

参考资料

他本来想为国家造潜艇,最终却登上教师最高荣誉领奖台_余金中.搜狐新闻.2022-01-20

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